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国际品牌设备翻新

具有交期短、性能稳定、价格适中的优点,吉姆西具有以下优势:

团队专业

核心技术团队成员主要来自顶级半导体设备公司原厂,以及国内外各大芯片制造FAB,有扎实的技术功底,专业的技术水平;

有经验丰富的维修团队、专业的维修工具和车间,保证组装零件的质量与快速的问题处理

技术保障

国际品牌设备翻新业务已经成长为国内领先的一站式平台;

自主品牌设备研发制造稳步扩展工艺类型实现快速成长;

管理标准化

现有设备洁净车间1.5万平米;

有明确的设备SOP文件和验收标准,确保设备的出厂质量

供应链可靠

在行业深耕多年,拥有资深行业专家顾问团队;

美国、欧洲、日本、韩国、新加坡等全球采购渠道;

具备整线采购、搬迁经验

服务周到

重点项目配备项目经理,与客户无缝对接,提高响应速度;

全国多处办事处,服务及时有保证

  • CMP化学机械抛光
    AMAT MIRRA
    AMAT REFLEXION
    AMAT REFLEXION LK
    咨询
  • CVD/PVD化学/物理气相淀积
    P5000 DLH/DXZIWXZ
    CENTURA DXZIWXZ
    PRODUCER S
    ULTIMA+
    PRODUCER SE
    PRODUCER GT
    ULTIMA X
    ENDURA
    C1
    C2 SEQUEL/SPEED/ALTUS
    C3 VECTOR/EXPRESS /EXTREME
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  • DRY ETCH干法刻蚀机
    RAINBOW 4420/4520/4720
    TCP9400/9600
    LAM2300 FLEX/FLEX45/DS/EX/EX+
    LAM2300 SYNDION
    LAM2300 KIYO/KIYO45
    LAM2300 METAL
    LAM GAMMA
    P5000 MXP/MXP+
    ENTURAEMAX/DPSPOLYIDPS METAL
    EMAX CT+
    DPS2 MESA/METAL
    Suprema
    Aspen3
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  • WET CLEAN湿法清洗机/腐蚀机
    SS3000/3100
    FC3000/3100
    SU3100/3200
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  • LITHOGRAPHY光刻机
    FPA-6000ES6a/ES6/ES5a
    FPA-5510IZ/FPA-5500IZa/IZ+/IZ
    FPA-5000ES4/ES3
    FPA-3000EX6/EX5/EX4/i5+/i5/i4
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  • CLEAN TRACK涂胶显影机
    MARKV/VZ
    MARK7/8
    ACT8
    ACT12
    LITHIUS series
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